LIQUID TREATMENT APPARATUS AND METHOD OF ADJUSTING TEMPERATURE OF TREATMENT LIQUID

• Main Authors: KAWAKAMI KOHEI, YAMAUCHI TAKASHI, SHIBATA DAIKI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 22.06.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; BLASTING; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVEFUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; HEATING; HOLOGRAPHY; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; LIGHTING; MATERIALS THEREFOR; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL; MECHANICAL ENGINEERING; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; PIPES; SEMICONDUCTOR DEVICES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; THERMAL INSULATION IN GENERAL; WEAPONS

The present invention prevents water from being mixed in a treatment liquid when adjusting a temperature of a treatment liquid supplied to a discharge nozzle. A liquid treatment apparatus includes: a substrate holder for holding a substrate; a discharge nozzle for discharging a treatment liquid onto the substrate held by the substrate holder; a liquid supply pipe for supplying the treatment liquid from a treatment liquid storage source to the discharge nozzle; a gas pipe that encompasses the liquid supply pipe and through which an inert gas for adjusting the temperature of the treatment liquid flows in a space between the gas pipe and the liquid supply pipe; a processing container in which the substrate holder, the discharge nozzle, the liquid supply pipe, and the gas pipe are provided; and an atmosphere gas supply part for supplying an atmosphere gas into the processing container. The gas pipe is provided so that an extension portion between an upstream end inside the processing container and an encompassing portion for encompassing the liquid supply pipe is bent when viewed from the top in the processing container. 본 발명은, 토출 노즐에 공급하는 처리액을 온도 조정할 때 당해 처리액에 수분이 혼입되는 것을 방지한다. 액 처리 장치이며, 기판을 보유 지지하는 기판 보유 지지부와, 상기 기판 보유 지지부에 보유 지지된 기판에 처리액을 토출하는 토출 노즐과, 처리액의 저류원으로부터의 처리액을 상기 토출 노즐에 공급하는 액 공급관과, 상기 액 공급관을 내포하고, 상기 액 공급관과의 사이의 공간에 처리액의 온도 조정용 불활성 가스가 통류하는 가스관과, 상기 기판 보유 지지부, 상기 토출 노즐, 상기 액 공급관 및 가스관이 내부에 마련되는 처리 용기와, 상기 처리 용기 내에 분위기 가스를 공급하는 분위기 가스 공급부를 갖고, 상기 가스관은, 상기 처리 용기 내에서의 상류측 단부와 상기 액 공급관을 내포하는 내포 부분 사이의 부분인 연장부가, 당해 처리 용기 내에서 상면으로 보아 꺾이도록 마련되어 있다.