기판 파라미터에 대한 처리 장치의 기여도를 결정하는 방법

• Main Author: ANUNCIADO ROY
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 09.06.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

개시된 제 1 기판에 걸친 파라미터의 지문에 대한 처리 장치의 기여도를 결정하기 위한 방법으로서, 기판 상의 제 1 피쳐의 검사와 연관된 제 1 퓨필 이미지와 기판 상의 제 2 피쳐의 검사와 연관된 제 2 퓨필 이미지 사이의 차이에 관련되는 델타 이미지를 획득하는 단계 - 상기 제 1 피쳐와 상기 제 2 피쳐는 상이한 선량 감도를 가짐 -; 상기 제 1 피쳐와 상기 제 2 피쳐를 형성하기 위하여 사용되는 선량의 변동에 응답하여, 상기 차이의 변화율을 결정하는 단계; 델타 이미지 내에 포함된, 미리 결정된 임계치보다 높은 변화율을 가지는 복수 개의 픽셀을 선택하는 단계; 및 결정된 변화율 및 상기 복수 개의 픽셀로 한정된 델타 이미지를 사용하여 상기 기여도를 결정하는 단계를 포함하는, 기여도 결정 방법이 개시된다. Disclosed is a method for determining a contribution of a processing apparatus to a fingerprint of a parameter across a first substrate, the method comprising: obtaining a delta image which relates to the difference between a first pupil image associated with inspection of a first feature on the substrate and a second pupil image associated with inspection of a second feature on the substrate, wherein the first and second features have different dose sensitivities; determining a rate of change of the difference in response to a variation of a dose used to form said first and second features; and determining the contribution using the determined rate of change and the delta image.