피리다지논 제초제 및 제초제 제조에 사용되는 피리다지논 중간체

화학식 I의 화합물 및 그의 N-옥시드 또는 염이 개시되고, 여기서 R1이 C1-C4 알킬 또는 C3-C6 시클로알킬이고; R2가 H, Cl, Br 또는 I이고; R3이 Cl 또는 OR4이고; R4가 H 또는 C1-C4 알킬이고; R5가 H, F, Cl 또는 CH3이고; R6이 H 또는 Cl이다. 또한 화학식 I의 화합물을 함유하는 조성물, 및 바람직하지 않은 식생 또는 그의 환경을 유효량의 화학식 I의 화합물 또는 그의 조성물과 접촉시키는 것을 포함하는, 바람직하지 않은 식생을 방제하는 방법이 개시된다. 또한 화학식 I의 화합물을...

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Main Authors STEVENSON THOMAS MARTIN, CHEN YUZHONG, MCCANN STEPHEN FREDERICK, MARSHALL ERIC ALLEN, SELBY THOMAS PAUL
Format Patent
LanguageKorean
Published 04.06.2021
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Summary:화학식 I의 화합물 및 그의 N-옥시드 또는 염이 개시되고, 여기서 R1이 C1-C4 알킬 또는 C3-C6 시클로알킬이고; R2가 H, Cl, Br 또는 I이고; R3이 Cl 또는 OR4이고; R4가 H 또는 C1-C4 알킬이고; R5가 H, F, Cl 또는 CH3이고; R6이 H 또는 Cl이다. 또한 화학식 I의 화합물을 함유하는 조성물, 및 바람직하지 않은 식생 또는 그의 환경을 유효량의 화학식 I의 화합물 또는 그의 조성물과 접촉시키는 것을 포함하는, 바람직하지 않은 식생을 방제하는 방법이 개시된다. 또한 화학식 I의 화합물을 제조하는 방법이 개시된다. TIFFpct00125.tif4440 Disclosed are compounds of Formula I and N-oxides or salts thereof, wherein R1 is C1-C4alkyl or C3-C6cycloalkyl; R2 is H, Cl, Br or I; R3 is Cl or OR4; R4 is H or C1-C4 alkyl; R5 is H, F, Cl or CH3; and R6 is H or Cl. Also disclosed is a composition containing a compound of Formula I, and methods for controlling undesired vegetation comprising contacting the undesired vegetation or its environment with an effective amount of a compound of Formula I or a composition thereof. Also disclosed are methods for preparing a compound of Formula I.
Bibliography:Application Number: KR20217011978