전자 장치 생산을 위한 액체 또는 가스 여과 방법

전자 장치의 생산, 나노시스템 또는 초순수의 생산을 위해 또는 이들의 생산 동안 액체 또는 가스를 포함하는 공급물을 여과하는 방법은 적어도 하나의 필터 조립체를 사용하여 상기 공급물을 여과하는 단계를 포함하여, 상기 적어도 하나의 필터 조립체는 적어도 하나의 이소포러스 블록 코폴리머 여과 막을 포함한다. Methods of filtering a feed comprising a liquid or a gas for or during the production of electronics, nanosystems or ultrapure wa...

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Main Authors DORIN RACHEL M, ROBBINS SPENCER
Format Patent
LanguageKorean
Published 31.05.2021
Subjects
CHEMISTRY
METALLURGY
PERFORMING OPERATIONS
PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
SEPARATION
TRANSPORTING
TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
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Summary:전자 장치의 생산, 나노시스템 또는 초순수의 생산을 위해 또는 이들의 생산 동안 액체 또는 가스를 포함하는 공급물을 여과하는 방법은 적어도 하나의 필터 조립체를 사용하여 상기 공급물을 여과하는 단계를 포함하여, 상기 적어도 하나의 필터 조립체는 적어도 하나의 이소포러스 블록 코폴리머 여과 막을 포함한다. Methods of filtering a feed comprising a liquid or a gas for or during the production of electronics, nanosystems or ultrapure water include filtering said feed using at least one filter assembly, wherein said at least one filter assembly includes at least one isoporous block copolymer filtration membrane.
Bibliography:Application Number: KR20217013413