계측 방법, 패터닝 디바이스, 장치 및 컴퓨터 프로그램

• Main Authors: BOZKURT MURAT, OTTENS JOOST JEROEN, KUBIS MICHAEL, DEN BOEF ARIE JEFFREY, HINNEN PAUL CHRISTIAAN, WARNAAR PATRICK, BHATTACHARYYA KAUSTUVE, ZHOU ZILI, PANDEY NITESH, VAN DER SCHAAR MAURITS, ZWIER OLGER VICTOR, MC NAMARA ELLIOTT GERARD
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 27.05.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

오버레이 측정 방법은 기판(W) 상에 형성된 한 쌍의 서브타겟(1032, 1034) 상의 위치들(LOI)로부터의 복수의 비대칭 측정을 이용한다. 각각의 서브타겟에 대해, 복수의 비대칭 측정은 서브타겟 내에 설계되는 알려진 바이어스 변동에 기초하여 비대칭과 오버레이 사이의 적어도 하나의 예상된 관계(1502, 1504)에 피팅된다. 일례로서 연속적인 바이어스 변동이 상부 및 하부 격자의 피치(P1/P2)를 변경함으로써 제공된다. 이러한 쌍의 서브타겟들 간의 바이어스 변동은 동일한 크기이지만 서로 반대이다(P2/P1). 오버레이(OV)는 2개의 서브타겟에 대한 피팅된 관계들 간의 상대적인 시프트(xs)에 기초해 계산된다. 비대칭 측정을 적어도 하나의 예상된 관계에 피팅하는 단계는, 예상된 관계로부터 벗어나고 및/또는 피팅된 관계의 특정 세그먼트의 범위 밖에 있는 측정(1506, 1508, 1510)을 전적으로 또는 부분적으로 감가하는 단계를 포함한다. A method of measuring overlay uses a plurality of asymmetry measurements from locations (LOI) on a pair of sub-targets (1032, 1034) formed on a substrate (W). For each sub-target, the plurality of asymmetry measurements are fitted to at least one expected relationship (1502, 1504) between asymmetry and overlay, based on a known bias variation deigned into the sub-targets. Continuous bias variation in one example is provided by varying the pitch of top and bottom gratings (P1/P2). Bias variations between the sub-targets of the pair are equal and opposite (P2/P1). Overlay (OV) is calculated based on a relative shift (xs) between the fitted relationships for the two sub-targets. The step of fitting asymmetry measurements to at least one expected relationship includes wholly or partially discounting measurements (1506, 1508, 1510) that deviate from the expected relationship and/or fall outside a particular segment of the fitted relationship.