재료 증착 장치, 진공 증착 시스템, 및 대면적 기판을 프로세싱하는 방법

• Main Authors: SAUER ANDREAS, HEYMANNS MATTHIAS, BANGERT STEFAN, ZANG SEBASTIAN GUNTHER, HENRICH JUERGEN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 20.05.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

진공 챔버에서 기판 상에 재료를 증착하기 위한 재료 증착 장치가 설명된다. 재료 증착 장치는, 마스크 프레임 및 마스크를 갖는 마스크 어셈블리를 지지하도록 구성된 마스크 스테이지; 기판 이송 트랙 - 기판 이송 트랙의 적어도 일부분은 진공 챔버 내에 제공되고, 기판 이송 트랙은 기판 캐리어를 지지하도록 구성됨 -; 마스크 스테이지에 커플링되고, 그리고 마스크 어셈블리를 본질적 수직 배향으로 마스크 스테이지 상으로 전달하도록 구성된 홀딩 디바이스; 및 2개 이상의 정렬 액추에이터들을 갖는 정렬 어셈블리를 포함하며, 정렬 어셈블리는 마스크 스테이지에 커플링되고, 그리고 기판 캐리어와 마스크 어셈블리를 서로에 대해 이동시키기 위해 기판 캐리어에 커플링되도록 구성된다. A material deposition apparatus for depositing material on a substrate in a vacuum chamber is described. The material deposition apparatus includes a mask stage configured to support a mask assembly having a mask frame and a mask; a substrate transportation track having at least a portion of the substrate transportation track provided in the vacuum chamber, the substrate transportation track being configured to support the substrate carrier; a holding device coupled to the mask stage and configured for a transfer of the mask assembly in an essentially vertical orientation onto the mask stage; and an alignment assembly having two or more alignment actuators, the alignment assembly being coupled to the mask stage and configured to couple to the substrate carrier to move the substrate carrier and the mask assembly relative to each other.