에피택시 반응기의 석영 돔을 위한 퍼지식 뷰포트

• Main Authors: CHU SCHUBERT S, HU JI DIH, BURROWS BRIAN H, DEVRAJAN JANARDHAN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 12.05.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

본원에 설명되는 실시예들은 일반적으로, 프로세스 챔버 내에 배치된 기판에 대한 중단되지 않는 광학적 접근을 지속적으로 제공할 수 있는 인-시튜 계측 시스템에 관한 것이다. 일 실시예에서, 기판 처리 챔버에 대한 계측 시스템이 제공된다. 계측 시스템은, 기판 처리 챔버의 석영 돔에 결합되는 센서 뷰 파이프, 센서 뷰 파이프의 외측 표면으로부터 반경방향으로 연장되는 플랜지, 및 플랜지 상에 배치되는 뷰포트 윈도우를 포함하며, 뷰포트 윈도우는, 뷰포트 윈도우 상에 또는 그에 인접하게 배치되는 광학 센서에 대해 선택된 스펙트럼 범위들을 갖는다. Embodiments described herein generally relate to an in-situ metrology system that can constantly provide an uninterrupted optical access to a substrate disposed within a process chamber. In one embodiment, a metrology system for a substrate processing chamber is provided. The metrology system includes a sensor view pipe coupling to a quartz dome of a substrate processing chamber, a flange extending radially from an outer surface of the sensor view pipe, and a viewport window disposed on the flange, the viewport window having spectral ranges chosen for an optical sensor that is disposed on or adjacent to the viewport window.