Substrate treatment apparatus

• Main Authors: PARK IN HWANG, KIM KUK SAENG, KIM SUNG PIL, KIM KYUNG MIN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 10.05.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

A substrate processing apparatus of the present invention includes: a rotation unit supporting a substrate and rotating the substrate; a chemical discharging unit discharging a chemical to the rotation unit; a chemical recovery unit positioned to be adjacent to the rotation unit and configured to recover the chemical scattered from the rotation unit; a lifting unit coupled to the chemical recovery unit and configured to vertically move the chemical recovery unit with respect to the rotation unit; and at least one position correcting member configured to enable the chemical recovery unit to be elastically supported with respect to the lifting unit and to change the relative position of the chemical recovery unit with respect to the lifting unit. It is possible to prevent breakage and improve operational reliability. 본 기재의 기판 처리 장치는 기판을 지지하고, 기판을 회전시키는 회전 유닛; 상기 회전 유닛으로 약액을 토출하는 약액 토출 유닛; 상기 회전 유닛에 인접하게 위치되고, 상기 회전 유닛에서 비산되는 약액을 회수하는 약액 회수 유닛; 상기 약액 회수 유닛과 결합되고, 상기 약액 회수 유닛이 상기 회전 유닛에 대하여 상하방향으로 이동될 수 있게 하는 승강 유닛; 및 상기 약액 회수 유닛이 상기 승강 유닛에 대해 탄성 지지될 수 있게 하고, 상기 승강 유닛에 대한 약액 회수 유닛의 상대적인 위치가 가변될 수 있게 하는 하나 이상의 위치 보정 부재;를 포함한다.