리소그래피 방법

본 발명은 리소그래피 장치 내에서 펠리클의 이동 중에 발생할 펠리클의 편향을 예측하는 방법으로서, 본 방법은 펠리클의 특성에 관한 매개변수를 받아들이는 것 및 펠리클의 예상되는 이동에 관한 매개변수를 받아들이는 것을 포함한다. 매개변수는 이 매개변수의 함수로서 펠리클의 편향을 예측하는 모델에 적용된다. 모델은 펠리클의 편향의 상이한 성분과 관련된 복수의 서브-모델을 포함한다. 모델의 출력이 사용되어 펠리클의 예측된 편향과 연관된 리소그래피 오차를 예측할 수 있고 감소시킬 수 있다. A method of predicting defle...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors MOEST BEARRACH, VAN DEN NIEUWELAAR NORBERTUS JOSEPHUS MARTINUS, MEIJERINK ROWIN, SCHENKELAARS THIJS, VAN BOKHOVEN LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS
Format Patent
LanguageKorean
Published 06.05.2021
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
Online AccessGet full text

Cover

More Information
Summary:본 발명은 리소그래피 장치 내에서 펠리클의 이동 중에 발생할 펠리클의 편향을 예측하는 방법으로서, 본 방법은 펠리클의 특성에 관한 매개변수를 받아들이는 것 및 펠리클의 예상되는 이동에 관한 매개변수를 받아들이는 것을 포함한다. 매개변수는 이 매개변수의 함수로서 펠리클의 편향을 예측하는 모델에 적용된다. 모델은 펠리클의 편향의 상이한 성분과 관련된 복수의 서브-모델을 포함한다. 모델의 출력이 사용되어 펠리클의 예측된 편향과 연관된 리소그래피 오차를 예측할 수 있고 감소시킬 수 있다. A method of predicting deflection of a pellicle which will occur during movement of the pellicle in a lithographic apparatus, the method including receiving parameters regarding properties of the pellicle and receiving parameters regarding the expected movement of the pellicle. The parameters are applied to a model which predicts deflection of the pellicle as a function of those parameters. The model includes a plurality of sub-models which relate to different components of deflection of the pellicle. An output of the model may be used to predict.
Bibliography:Application Number: KR20217010515