패터닝 공정의 패턴들의 세트로부터 후보 패턴들을 결정하는 방법

• Main Authors: VELLANKI VENUGOPAL, SIMMONS MARK CHRISTOPHER
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 21.04.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CALCULATING; CINEMATOGRAPHY; COMPUTING; COUNTING; ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 명세서에서, 패터닝 공정의 패턴들의 세트로부터 후보 패턴들을 결정하는 방법이 설명된다. 상기 방법은 (ⅰ) 패터닝 공정의 패턴들의 세트, (ⅱ) 제 1 피처 및 제 2 피처를 갖는 검색 패턴, 및 (ⅲ) 검색 패턴의 제 1 피처와 제 2 피처 간의 상대 위치를 포함하는 제 1 검색 조건을 얻는 단계; 및 검색 패턴의 제 1 피처 및 제 2 피처와 연계된 제 1 검색 조건을 만족하는 패턴들의 세트로부터의 후보 패턴들의 제 1 세트를 결정하는 단계를 포함한다. A method of determining candidate patterns from a set of patterns of a patterning process. The method includes obtaining (i) a set of patterns of a patterning process, (ii) a search pattern having a first feature and a second feature, and (iii) a search condition comprising a relative position between the first feature and the second feature of the search pattern; and determining a set of candidate patterns from the set of patterns that satisfies the search condition associated with the first feature and the second feature of the search pattern.