Integrated circuit device
The integrated circuit device comprises: a conductive line formed on a substrate; an insulating spacer covering a sidewall of the conductive line and extending parallel to the conductive line; and a conductive plug facing the conductive line with the insulating spacer interposed therebetween. The in...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
11.03.2021
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Summary: | The integrated circuit device comprises: a conductive line formed on a substrate; an insulating spacer covering a sidewall of the conductive line and extending parallel to the conductive line; and a conductive plug facing the conductive line with the insulating spacer interposed therebetween. The insulating spacer includes an insulating liner in contact with the conductive line, an outer spacer in contact with the conductive plug, and a barrier layer interposed between the insulating liner and the outer spacer and preventing oxygen diffusion into the outer spacer.
집적회로 소자는 기판상에 형성된 도전 라인과, 상기 도전 라인의 측벽을 덮고 상기 도전 라인과 평행하게 연장되는 절연 스페이서와, 상기 절연 스페이서를 사이에 두고 상기 도전 라인에 대면하는 도전성 플러그를 포함하고, 상기 절연 스페이서는 상기 도전 라인에 접하는 절연 라이너와, 상기 도전성 플러그에 접하는 아우터 스페이서와, 상기 절연 라이너와 상기 아우터 스페이서와의 사이에 개재되고 상기 아우터 스페이서로의 산소 확산을 방지하는 배리어막을 포함한다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20190106642 |