GAS SUPPLY LAYER DEPOSITION METHOD AND LAYER DEPOSITION APPARATUS

Provided is a gas supplier for a thin film deposition device, which includes: a plurality of charge distribution lines connected to a first gas supply source; a plurality of charge tanks respectively connected to the charge distribution lines to charge the first gas supplied from the first gas suppl...

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Main Authors LEE KYU HO, JI BYOUNG HOON, BAE JONG YONG, MAENG SEO YOUNG, HAN DONG HOON, KIM MIN JOON
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 10.03.2021
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Summary:Provided is a gas supplier for a thin film deposition device, which includes: a plurality of charge distribution lines connected to a first gas supply source; a plurality of charge tanks respectively connected to the charge distribution lines to charge the first gas supplied from the first gas supply source; a gas supply line connected to a second gas source; and a multi-dosing valve assembly to which outlets of the charge tanks are connected and sequentially supplying the first gas from the charge tanks to a process chamber. The multi-dosing valve assembly includes a plurality of valve blocks coupled to a flow path block having a main supply line connected to the process chamber and respectively having a plurality of discharge valves for controlling the discharge of the first gas from each of the charge tanks to the main supply line. 박막 증착 장치용 가스 공급기는 제1 가스 공급원과 연결된 복수 개의 충전 분배 라인들, 상기 충전 분배 라인들에 각각 연결되며 상기 제1 가스 공급원으로부터 공급된 제1 가스를 충전시키기 위한 복수 개의 충전 탱크들, 제2 가스 공급원과 연결된 가스 공급 라인, 및 상기 충전 탱크들의 유출부들이 접속되고 상기 충전 탱크들로부터의 상기 제1 가스를 공정 챔버에 순차적으로 공급하기 위한 멀티-도징 밸브 조립체를 포함한다. 상기 멀티-도징 밸브 조립체는 상기 공정 챔버에 연결되는 메인 공급 라인을 구비하는 유로 블록에 체결되며 상기 충전 탱크들 각각으로부터 상기 메인 공급 라인으로의 상기 제1 가스의 배출을 제어하기 위한 복수 개의 방출 밸브들을 각각 구비하는 복수 개의 밸브 블록들을 포함한다.
Bibliography:Application Number: KR20190108323