CERAMIC SHOWERHEAD WITH EMBEDDED RF ELECTRODE FOR CAPACITIVELY COUPLED PLASMA REACTOR

• Main Authors: KEIL DOUGLAS L, MOHAMED SABRI, AUGUSTYNIAK EDWARD, LINGAMPALLI RAMKISHAN RAO, LEESER KARL, BARNETT CODY
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 04.03.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

A showerhead assembly for a substrate processing system includes a back plate associated with a gas channel. A face plate is connected adjacent to a first surface of the back plate, and the face plate includes a gas diffusion surface. An electrode is arranged in one of the back plate and the face plate and is connected with one or more conductors. A gas plenum is defined between the back plate and the face plate and is in fluid communication with the gas channel. The back plate and face plate are made of a non-metallic material. 기판 처리 시스템을 위한 샤워헤드 어셈블리는 가스 채널과 연결된 백 플레이트를 포함한다. 페이스 플레이트는 백 플레이트의 제1 표면에 인접하여 연결되고 가스 확산 표면을 포함한다. 전극은 백 플레이트 및 페이스 플레이트 중 하나 내에 배열되고 일 이상의 전도체와 연결된다. 가스 플레넘은 백 플레이트 및 페이스 플레이트 사이에 정의되고 가스 채널과 유체 연통한다. 백 플레이트 및 페이스 플레이트는 비금속성 재료로 이뤄진다.