TARGET DEBRIS COLLECTION DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE INCLUDING THE SAME

• Main Authors: CHOI MIN SEOK, KIM SUNG HYUP, YU HO, KIM JEONG GIL
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 04.03.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The present invention relates to a target debris collection apparatus to automatically collect and remove target debris generated in an extreme ultraviolet (EUV) vessel and a EUV light source apparatus including the same. According to the present invention, the target debris collection apparatus comprises: a baffle body extending within a EUV vessel between a collector and an outlet port of the EUV vessel and configured to allow EUV light reflected from the collector to pass through an inner passing region formed therein; a discharge plate provided at a first end of the baffle body adjacent the collector to collect target material debris on the inner surface of the baffle body; a guide structure configured to guide the target material debris collected on the discharge plate to a collection tank; and a first heating member provided in the guide structure to prevent the target material debris from being solidified. 극자외선 광원 장치용 타겟 잔해물 수집 장치는 EUV 용기 내에서 콜렉터 및 상기 EUV 용기의 출구 포트 사이에서 연장하고 내부 통과 영역을 통해 상기 콜렉터로부터 반사된 극자외선 광을 통과시키기 위한 배플 몸체, 상기 콜렉터에 인접한 상기 배플 몸체의 제1 단부에 구비되어 상기 배플 몸체 내부면 상의 상기 타겟 재료 잔해물을 수집하기 위한 배출 플레이트, 상기 배출 플레이트에 수집된 상기 타겟 재료 잔해물을 수집 탱크로 가이드하기 위한 가이드 구조물, 및 상기 가이드 구조물에 구비되어 상기 타겟 재료 잔해물이 고형화되는 것을 방지하기 위한 제1 가열 부재를 포함한다.