EUV 펠리클

• Main Authors: NASALEVICH MAXIM ALEKSANDROVICH, VLES DAVID FERDINAND, VAN ZWOL PIETER JAN, KLEIN ALEXANDER LUDWIG, KURGANOVA EVGENIA, NOTENBOOM ARNOUD WILLEM
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 02.03.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

실리콘 카바이드 이외의 재료를 포함하는 코어, 실리콘 카바이드 접착 층, 및 루테늄 캡핑 층을 포함하는 펠리클으로서, 상기 루테늄 캡핑 층이 상기 실리콘 카바이드 접착 층과 접촉하는, 펠리클. 또한, (i) 펠리클 코어를 제공하는 단계; (ii) 상기 펠리클 코어 상에 실리콘 카바이드 접착 층을 제공하는 단계; 및 (iii) 상기 실리콘 카바이드 접착 층과 접촉하는 루테늄 캡핑 층을 제공하는 단계를 포함하는 펠리클의 제조 방법이 설명된다. 또한 EUV 펠리클에서 접착 층으로서 실리콘 카바이드의 용도 그리고 어셈블리가 제공된다. A pellicle comprising a core comprising a material other than silicon carbide, a silicon carbide adhesion layer, and a ruthenium capping layer, the ruthenium capping layer being in contact with the silicon carbide adhesion layer. Also described is a method of preparing a pellicle comprising the steps of: (i) providing a pellicle core; (ii) providing a silicon carbide adhesion layer on the pellicle core; and (iii) providing a ruthenium capping layer in contact with the silicon carbide adhesion layer. Also provided is the use of silicon carbide as an adhesion layer in an EUV pellicle as well as an assembly.