플렉시블 일렉트로닉스 소자용 기판, 유기 박막 태양 전지, 적층 구조체 및 그의 제조 방법, 및 플렉시블 일렉트로닉스 소자의 제조 방법

낮은 자외광 투과성과 높은 가시광 투과성을 겸비하고, 일렉트로닉스 소자의 성능을 저하시킴이 없이 자외선 열화를 억제 가능한 폴리이미드층을 포함하는 플렉시블 일렉트로닉스 소자용 기판을 제공하는 것을 과제로 한다. 상기 과제 해결을 위해, 하기 (1)∼(3)을 모두 만족시키는 폴리이미드층을 포함하는, 플렉시블 일렉트로닉스 소자용 기판으로 한다. (1) 두께 5μm에 있어서의 파장 400±5nm의 최대 투과율이 70% 이상이다 (2) 두께 5μm에 있어서의 L*a*b* 표색계의 b*값이 5 이하이다 (3) 두께 5μm에 있어서의 파장 3...

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Main Authors URAKAMI TATSUHIRO, FUKUKAWA KENICHI, SOMEYA TAKAO, OKAZAKI MASAKI, FUKUDA KENJIRO, KIMURA HIROKI
Format Patent
LanguageKorean
Published 22.02.2021
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Summary:낮은 자외광 투과성과 높은 가시광 투과성을 겸비하고, 일렉트로닉스 소자의 성능을 저하시킴이 없이 자외선 열화를 억제 가능한 폴리이미드층을 포함하는 플렉시블 일렉트로닉스 소자용 기판을 제공하는 것을 과제로 한다. 상기 과제 해결을 위해, 하기 (1)∼(3)을 모두 만족시키는 폴리이미드층을 포함하는, 플렉시블 일렉트로닉스 소자용 기판으로 한다. (1) 두께 5μm에 있어서의 파장 400±5nm의 최대 투과율이 70% 이상이다 (2) 두께 5μm에 있어서의 L*a*b* 표색계의 b*값이 5 이하이다 (3) 두께 5μm에 있어서의 파장 350nm의 광의 투과율이 10% 이하이다. The present invention addresses the problem of providing a flexible electronic element substrate comprising a polyimide layer that has both low ultraviolet transmittance and high visible light transmittance and that is capable of suppressing ultraviolet degradation without any reduction in the performance of an electronic element. In order to solve this problem, the flexible electronic element substrate comprises a polyimide layer that satisfies all of (1) through (3) below: (1) maximum transmittance at a wavelength of 400±5 nm is 70% or higher at a thickness of 5 μm; (2) the b* value in an L*a*b* color system is 5 or less at a thickness of 5 μm; and (3) transmittance of light at a wavelength of 350 nm is 10% or less at a thickness of 5 μm.
Bibliography:Application Number: KR20217000879