평면 패널 툴에 기판을 신속하게 로딩하기 위한 방법
본 개시내용은 일반적으로 기판들을 로딩, 처리 및 언로딩하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 처리 시스템은 포토리소그래피 시스템에 결합된 로드/언로드 시스템을 포함한다. 로드/언로드 시스템은 제1 높이 및 제1 폭을 갖는 제1 세트의 트랙들, 및 제1 높이 및 제1 폭과는 다른 제2 높이 및 제2 폭을 갖는 제2 세트의 트랙들을 포함한다. 미처리 기판이 제1 트레이 상에서 제1 세트의 트랙들을 따라 리프트 핀 로더로부터 척으로 이송되는 한편, 처리된 기판은 제2 트레이 상에서 제2 세트의 트랙들을 따라 척으로부터 리프트 핀 로더...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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08.02.2021
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Summary: | 본 개시내용은 일반적으로 기판들을 로딩, 처리 및 언로딩하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 처리 시스템은 포토리소그래피 시스템에 결합된 로드/언로드 시스템을 포함한다. 로드/언로드 시스템은 제1 높이 및 제1 폭을 갖는 제1 세트의 트랙들, 및 제1 높이 및 제1 폭과는 다른 제2 높이 및 제2 폭을 갖는 제2 세트의 트랙들을 포함한다. 미처리 기판이 제1 트레이 상에서 제1 세트의 트랙들을 따라 리프트 핀 로더로부터 척으로 이송되는 한편, 처리된 기판은 제2 트레이 상에서 제2 세트의 트랙들을 따라 척으로부터 리프트 핀 로더로 이송된다. 제1 트레이가 처리 중에 척 상에 기판과 함께 유지되는 동안, 로드/언로드 시스템은 처리된 기판을 언로딩하고 미처리 기판을 제2 트레이 상에 로딩하도록 구성된다.
The present disclosure generally relates to a method and apparatus for loading, processing, and unloading substrates. A processing system comprises a load/unload system coupled to a photolithography system. The load/unload system comprises a first set of tracks having a first height and a first width, and a second set of tracks having a second height and a second width different than the first height and first width. An unprocessed substrate is transferred from a lift pin loader to a chuck along the first set of tracks on a first tray while a processed substrate is transferred from the chuck to the lift pin loader along the second set of tracks on a second tray. While a first tray remains with a substrate on the chuck during processing, the load/unload system is configured to unload a processed substrate and load an unprocessed substrate on a second tray. |
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Bibliography: | Application Number: KR20217002916 |