PIECEWISE ALIGNMENT MODELING METHOD

본원에서 개시되는 실시예들은 일반적으로, 오버레이 에러에 대한 응답으로 기판의 노출 파라미터들을 조정하는 것에 관한 것이다. 방법은 하나 또는 그 초과의 섹션들로 기판을 파티셔닝하는 단계를 포함한다. 각각의 섹션은 이미지 투영 시스템에 대응한다. 기판 상에 증착된 제1 층의 총 오버레이 에러가 결정된다. 각각의 섹션에 대해, 섹션 오버레이 에러가 계산된다. 2개 또는 그 초과의 섹션들이 중첩되는 각각의 중첩 영역에 대해, 평균 오버레이 에러가 계산된다. 총 오버레이 에러에 대한 응답으로 노출 파라미터들이 조정된다. Methods a...

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Main Authors COSKUN TAMER, JEONG HWAN J
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 25.01.2021
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:본원에서 개시되는 실시예들은 일반적으로, 오버레이 에러에 대한 응답으로 기판의 노출 파라미터들을 조정하는 것에 관한 것이다. 방법은 하나 또는 그 초과의 섹션들로 기판을 파티셔닝하는 단계를 포함한다. 각각의 섹션은 이미지 투영 시스템에 대응한다. 기판 상에 증착된 제1 층의 총 오버레이 에러가 결정된다. 각각의 섹션에 대해, 섹션 오버레이 에러가 계산된다. 2개 또는 그 초과의 섹션들이 중첩되는 각각의 중첩 영역에 대해, 평균 오버레이 에러가 계산된다. 총 오버레이 에러에 대한 응답으로 노출 파라미터들이 조정된다. Methods are provided and generally relate to adjusting exposure parameters of a substrate in response to an overlay error. The method includes partitioning the substrate into one or more sections. Each section corresponds to an image projection system. A total overlay error of a first layer deposited on the substrate is determined. For each section, a sectional overlay error is calculated. For each overlap area, in which two or more sections overlap, an average overlay error is calculated. The exposure parameters are adjusted in response to the total overlay error.
Bibliography:Application Number: KR20217001613