Photosensitive resin composition
The present invention relates to a photosensitive resin composition and, more specifically, to a photosensitive resin composition suitable for forming a column spacer, a black matrix, or a colored (eg, black) column spacer due to high residual film rate while realizing a fine pattern, thereby capabl...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
21.01.2021
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Summary: | The present invention relates to a photosensitive resin composition and, more specifically, to a photosensitive resin composition suitable for forming a column spacer, a black matrix, or a colored (eg, black) column spacer due to high residual film rate while realizing a fine pattern, thereby capable of being used for various electronic components included in OLED displays and TFT-LCD panels.
본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 미세 패턴을 구현함과 동시에 잔막율이 높아 컬럼 스페이서, 블랙 매트릭스, 또는 착색(예컨대, 블랙) 컬럼 스페이서를 형성하는 데에 적합하기 때문에, OLED 디스플레이 및 TFT-LCD 패널을 비롯한 다양한 전자 부품에 사용될 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20200085145 |