RING STRUCTURES AND SYSTEMS FOR USE IN A PLASMA CHAMBER

• Main Authors: MACE ADAM, MARAKHTANOV ALEXEI, HOLLAND JOHN, KELLOGG MICHAEL C, MATYUSHKIN ALEXANDER, CHEN ZHIGANG, KOZAKEVICH FELIX
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 20.01.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

에지 링을 지지 링에 고정하기 위한 시스템들 및 방법들이 기술된다. 에지 링은 에지 링의 하단 표면에 삽입되는 복수의 패스너들을 통해 지지 링에 고정된다. 에지 링을 지지 링에 고정하는 것은 플라즈마 챔버 내에서 기판의 프로세싱 동안 에지 링의 안정성을 제공한다. 이에 더하여, 지지 링이, 플라즈마 챔버의 절연체 벽에 연결되는 절연체 링에 고정되기 때문에, 에지 링을 지지 링에 고정하는 것은, 에지 링을 플라즈마 챔버에 고정한다. 게다가, 지지 링 및 에지 링은 기판의 프로세싱 동안 하나 이상의 걸쇠 메커니즘들을 사용하여 수직으로 풀 다운되고 플라즈마 챔버로부터 에지 링 및 지지 링을 제거하기 위해 걸쇠 메커니즘들을 사용하여 수직으로 푸시 업된다. Systems and methods for securing an edge ring to a support ring are described. The edge ring is secured to the support ring via multiple fasteners that are inserted into a bottom surface of the edge ring. The securing of the edge ring to the support ring provides stability of the edge ring during processing of a substrate within a plasma chamber. In addition, the securing of the edge ring to the support ring secures the edge ring to the plasma chamber because the support ring is secured to an insulator ring, which is connected to an insulator wall of the plasma chamber. Moreover, the support ring and the edge ring are pulled down vertically using one or more clasp mechanisms during the processing of the substrate and are pushed up vertically using the clasp mechanisms to remove the edge ring and the support ring from the plasma chamber.