서브 마이크로미터의 특징부들을 갖는 대면적 몰드 마스터를 형성하기 위한 웨이퍼 타일링 방법

• Main Authors: PENG ZHEN, SOICHI EMELINE, VO SONNY
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 15.01.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

대면적 나노임프린트 몰드 마스터를 형성하는 방법이 제공된다. 방법은 복수의 서브 마스터 타일들을 강성 평면 기판 상에 포지셔닝하는 단계를 포함한다. 복수의 서브 마스터 타일들 각각의 서브 마스터 타일은 나노스케일 패턴을 가지며 대면적 나노임프린트 몰드 마스터의 서브 섹션을 나타낸다. 방법은 복수의 서브 마스터 타일들을 강성 평면 기판에 부착시키는 단계를 더 포함한다. 포지셔닝하는 단계는 한 쌍의 인접한 서브 마스터 타일들 각각의 서브 마스터 타일 상의 나노스케일 패턴의 나노스케일 특징부 간의 거리를 결정한다. 거리는 마이크로스케일 포지셔닝 공차를 갖는다. 또한, 대면적 나노임프린트 몰드 마스터 및 대면적 나노임프린트 리소그라피 방법이 제공된다. A method of forming a large-area nanoimprint mold master is provided. The method includes positioning a plurality of sub-master tiles on a rigid planar substrate. Each sub-master tile of the sub-master tile plurality has a nanoscale pattern and represents a subsection of the large-area nanoimprint mold master. The method further includes adhering the plurality of sub-master tiles to the rigid planar substrate. The positioning determines a distance between a nanoscale feature of the nanoscale pattern on each sub-master tile of a pair of adjacent sub-master tiles. The distance has microscale positioning tolerance. Also provided are a large-area nanoimprint mold master and a method of large-area nanoimprint lithography.