수지 조성물, 적층체, 수지 조성물층이 형성된 반도체 웨이퍼, 수지 조성물층이 형성된 반도체 탑재용 기판, 및 반도체 장치

우수한 플럭스 활성과 높은 절연 신뢰성을 양립하고, 양호한 보존 안정성을 구비하고, 또한 적층체로서 사용할 때에 작업성이 양호한 가요성을 갖는 수지 조성물을 제공한다. 본 발명의 수지 조성물은, 킬레이트 플럭스제 (A) 와, 열 라디칼 중합 개시제 (B) 와, 라디칼 중합성 화합물 (C) 를 함유한다. A resin composition that has both excellent flux activity and high insulation reliability, that possesses good storage stability,...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors HIGASHIGUCHI KOHEI, OKANIWA MASASHI, KIDA TSUYOSHI, TAKIGUCHI TAKENORI
Format Patent
LanguageKorean
Published 13.01.2021
Subjects
Online AccessGet full text

Cover

Loading…
More Information
Summary:우수한 플럭스 활성과 높은 절연 신뢰성을 양립하고, 양호한 보존 안정성을 구비하고, 또한 적층체로서 사용할 때에 작업성이 양호한 가요성을 갖는 수지 조성물을 제공한다. 본 발명의 수지 조성물은, 킬레이트 플럭스제 (A) 와, 열 라디칼 중합 개시제 (B) 와, 라디칼 중합성 화합물 (C) 를 함유한다. A resin composition that has both excellent flux activity and high insulation reliability, that possesses good storage stability, and that further has flexibility with good operability upon being used as a laminate is provided. The resin composition of the present invention contains a chelating flux agent (A), a thermal radical polymerization initiator (B) and a radical polymerizable compound (C).
Bibliography:Application Number: KR20207020189