NON-LINE OF SIGHT DEPOSITION OF ERBIUM BASED PLASMA RESISTANT CERAMIC COATING

본 명세서에서는 원자 층 증착(ALD) 및 화학 기상 증착(CVD)과 같은 비-가시선(NLOS) 증착 프로세스를 사용하여 챔버 컴포넌트의 표면 상에 플라즈마 내성 세라믹 코팅을 증착하는 방법이 설명된다. 플라즈마 내성 세라믹 코팅은 에르븀 함유 산화물, 에르븀 함유 옥시-불화물 또는 에르븀 함유 불화물로 구성된다. 에르븀 함유 산화물, 에르븀 함유 옥시-불화물 또는 에르븀 함유 불화물의 플라즈마 내성 세라믹 코팅을 갖는 챔버 컴포넌트들이 또한 설명된다. Described herein is a method of depositing a...

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Main Author SUN JENNIFER Y
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 23.12.2020
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:본 명세서에서는 원자 층 증착(ALD) 및 화학 기상 증착(CVD)과 같은 비-가시선(NLOS) 증착 프로세스를 사용하여 챔버 컴포넌트의 표면 상에 플라즈마 내성 세라믹 코팅을 증착하는 방법이 설명된다. 플라즈마 내성 세라믹 코팅은 에르븀 함유 산화물, 에르븀 함유 옥시-불화물 또는 에르븀 함유 불화물로 구성된다. 에르븀 함유 산화물, 에르븀 함유 옥시-불화물 또는 에르븀 함유 불화물의 플라즈마 내성 세라믹 코팅을 갖는 챔버 컴포넌트들이 또한 설명된다. Described herein is a method of depositing a plasma resistant ceramic coating onto a surface of a chamber component using a non-line-of-sight (NLOS) deposition process, such as atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD). The plasma resistant ceramic coating consists of an erbium containing oxide, an erbium containing oxy-fluoride, or an erbium containing fluoride. Also described are chamber components having a plasma resistant ceramic coating of an erbium containing oxide, an erbium containing oxy-fluoride, or an erbium containing fluoride.
Bibliography:Application Number: KR20207036657