시즈닝 프로세스의 엔드포인트를 검출하기 위한 방법들 및 장치

• Main Authors: SMITH SHAYNE, GHANTASALA SATHYENDRA, TUNCEL EDA, KOMMISETTI SUBRAHMANYAM VENKATA RAMA, PATZ RYAN, ZHANG LIMING
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 18.12.2020
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

프로세스 챔버에서 시즈닝 프로세스의 엔드포인트를 검출하기 위한 방법은, 제1 복수의 기판들의 각각의 기판에 대한 시즈닝 프로세스의 진행을 표시하는 시즈닝 진행 데이터를 획득하는 단계; 및 프로세스 챔버에 배치된 복수의 센서들로부터 이력 파라미터 값들을 수집하는 단계를 포함한다. 제1 복수의 기판들의 각각의 기판에 대한 이력 파라미터 값들은 제1 복수의 기판들 중 특정 기판에 대한 복수의 파라미터 값들에 대하여 정규화된다. 제1 복수의 기판들의 각각의 기판에 대한 정규화된 파라미터 값들에 계수들의 세트를 적용함으로써 MVA 모델이 생성되며, 계수들의 세트는 시즈닝 진행 데이터에 기초하여 회귀된다. 제2 복수의 기판들의 각각의 기판에 대해 시즈닝 프로세스를 수행할 때 측정된 복수의 실질적인 실시간 파라미터 값들과 MVA 모델을 사용하여 시즈닝 프로세스의 엔드포인트가 결정된다. A method for detecting an endpoint of a seasoning process in a process chamber includes obtaining seasoning progress data indicating a progress of the seasoning process for each substrate of a first plurality of substrates, and collecting historical parameter values from a plurality of sensors disposed in the process chamber. The historical parameter values for each substrate of the first plurality of substrates are normalized with respect to a plurality of parameter values for a particular substrate in the first plurality of substrates. An MVA model is generated by applying a set of coefficients to the normalized parameter values for each substrate of the first plurality of substrates, and the set of coefficients are regressed based on the seasoning progress data. An end point of the seasoning process is determined using the MVA model with a plurality of substantially real-time parameter values measured when performing a seasoning process over each substrate of a second plurality of substrates.