검사 툴, 검사 방법 및 컴퓨터 프로그램 제품

• Main Authors: KOOPMAN ADRIANUS CORNELIS MATHEUS, MANGNUS ALBERTUS VICTOR GERARDUS, QUINTANILHA RICHARD, MIDDLEBROOKS SCOTT ANDERSON
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 15.12.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

리소그래피 시스템에 의해 수행되는 리소그래피 공정에 의해 생성되는 구조체를 검사하는 검사 툴에 대한 측정 시퀀스를 결정하는 방법이 제시되며, 상기 방법은 리소그래피 시스템에 의해 수행되는 리소그래피 공정에 대한 모델을 도출하는 단계 -상기 모델은 리소그래피 시스템을 설명하는 시스템 변수들의 세트와 리소그래피 공정으로 발생하는 구조체를 나타내는 출력 변수 간의 관계를 포함함- ; 출력 변수에서의 1 이상의 시스템 변수의 관찰가능성을 결정하는 단계; 및 관찰가능성에 기초하여 검사 툴에 대한 측정 시퀀스를 결정하는 단계를 포함한다. A method of determining a measurement sequence for an inspection tool inspecting a structure generated by a lithographic process performed by a lithographic system is presented, the method comprising:- deriving a model for the lithographic process as performed by the lithographic system, the model including a relationship between an set of system variables describing the lithographic system and an output variable representing the structure resulting of the lithographic process,- determining an observability of one or more system variables in the output variable, and;- determining the measurement sequence for the inspection tool, based on the observability.