옥사진 모노아실글리세롤 리파아제(MAGL) 억제제

본 발명은, 하기 화학식 Ic의 구조를 갖는 신규 헤테로환형 화합물, 상기 화합물을 포함하는 조성물, 상기 화합물의 제조 방법, 및 상기 화합물의 사용 방법을 제공한다: [화학식 Ic] JPEGpct00196.jpg3274 상기 식에서, A, L, X, m, n 및 R20 내지 R23은 본원에 기술된 바와 같다. The invention provides new heterocyclic compounds having the general formula (Ic)wherein A, L, X, m, n and R20 to R23 are as...

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Main Authors KOCER BUELENT, O'HARA FIONN, KUHN BERND, BENZ JOERG, KROLL CARSTEN, RICHTER HANS, HANSEN DENNIS JUL, GROEBKE ZBINDEN KATRIN, GOBBI LUCA, GRETHER UWE, HORNSPERGER BENOIT, RITTER MARTIN, CHEN RUI, BELL CHARLES, TSUCHIYA SATOSHI
Format Patent
LanguageKorean
Published 07.12.2020
Subjects
CHEMISTRY
HETEROCYCLIC COMPOUNDS
HUMAN NECESSITIES
HYGIENE
MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE
METALLURGY
ORGANIC CHEMISTRY
PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL, OR TOILET PURPOSES
SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS ORMEDICINAL PREPARATIONS
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Summary:본 발명은, 하기 화학식 Ic의 구조를 갖는 신규 헤테로환형 화합물, 상기 화합물을 포함하는 조성물, 상기 화합물의 제조 방법, 및 상기 화합물의 사용 방법을 제공한다: [화학식 Ic] JPEGpct00196.jpg3274 상기 식에서, A, L, X, m, n 및 R20 내지 R23은 본원에 기술된 바와 같다. The invention provides new heterocyclic compounds having the general formula (Ic)wherein A, L, X, m, n and R20 to R23 are as described herein, compositions including the compounds, processes of manufacturing the compounds and methods of using the compounds.
Bibliography:Application Number: KR20207029587