리소그래피 시스템을 위한 빔 형성 및 조명 시스템, 리소그래피 시스템, 및 방법

• Main Authors: ABELE KLAUS, HOLDERER HUBERT, LIEBAUG BJOERN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 25.11.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 발명은 리소그래피 장치(100A, 100B), 특히 EUV 리소그래피 장치를 위한 빔 형성 및 조명 시스템(200)에 관한 것으로, 광학 요소(202, 204, 206, 208), 및 빔 형성 및 조명 시스템(200)의 가열 단계 동안 빔 형성 및 조명 시스템(200)의 필드 위치 및/또는 동공 위치를 측정하고, 측정된 필드 위치 및/또는 동공 위치에 따라, 광학 요소(202, 204, 206, 208)의 배향 및/또는 위치를 조절하여, 광학 요소(202, 204, 206, 208)를 원하는 위치(SL)에 유지하도록 구성된 조절 디바이스(700)를 포함한다. A beam-forming and illuminating system for a lithography system, such an EUV lithography system, includes an optical element and an adjusting device. The adjusting device is configured so that, during a heat-up phase of the beam-forming and illuminating system, the adjusting device measures a field position and/or a pupil position of the beam-forming and illuminating system and adjusts the orientation and/or position of the optical element based on the measured field position and/or pupil position to keep the optical element in a desired position.