Chamber apparatus for process

공정 처리용 챔버 장치가 개시된다. 공정 처리용 챔버 장치는 일 면에 출입구가 형성되며, 내부에 공간을 갖는 챔버; 상기 출입구가 형성된 챔버의 일 면에 위치하는 도어; 및 상기 도어를 상하방향으로 승강시키는 도어 구동 유닛을 포함하되, 상기 도어 구동 유닛은, 서로 나란하게 배치되는 한 쌍의 구동 가이드 레일; 상기 구동 가이드 레일 의 길이 방향을 따라 복수 개 제공되며, 상기 구동 가이드 레일 의 표면을 따라 구르는 롤러들; 및 상기 롤러들을 회전 가능하도록 지지하며, 상기 도어에 고정 결합되는 롤러 지지부를 포함한다....

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors SONG HYUNHEE, LEE JIN SEOK, HAM YOUNG JOON, OH SUK CHAN
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 25.11.2020
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
Online AccessGet full text

Cover

More Information
Summary:공정 처리용 챔버 장치가 개시된다. 공정 처리용 챔버 장치는 일 면에 출입구가 형성되며, 내부에 공간을 갖는 챔버; 상기 출입구가 형성된 챔버의 일 면에 위치하는 도어; 및 상기 도어를 상하방향으로 승강시키는 도어 구동 유닛을 포함하되, 상기 도어 구동 유닛은, 서로 나란하게 배치되는 한 쌍의 구동 가이드 레일; 상기 구동 가이드 레일 의 길이 방향을 따라 복수 개 제공되며, 상기 구동 가이드 레일 의 표면을 따라 구르는 롤러들; 및 상기 롤러들을 회전 가능하도록 지지하며, 상기 도어에 고정 결합되는 롤러 지지부를 포함한다.
Bibliography:Application Number: KR20190056888