키트, 입자 혼합물, 페이스트 및 방법
제1 유리 프릿의 입자 및 제2 유리 프릿의 입자를 포함하는 입자 혼합물로서, 제1 유리 프릿은 10 몰% 이상 25 몰% 이하의 BaO; 및 0 몰% 이상 10 몰% 이하의 Bi2O3을 포함하고; 제2 유리 프릿은 35 몰% 이상 55 몰% 이하의 Bi2O3; 2 몰% 이상 20 몰% 이하의 ZnO; 및 10 몰% 이상 40 몰% 이하의 B2O3을 포함한다. A particle mixture comprising particles of a first glass frit and particles of a second glass fri...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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19.11.2020
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Summary: | 제1 유리 프릿의 입자 및 제2 유리 프릿의 입자를 포함하는 입자 혼합물로서, 제1 유리 프릿은 10 몰% 이상 25 몰% 이하의 BaO; 및 0 몰% 이상 10 몰% 이하의 Bi2O3을 포함하고; 제2 유리 프릿은 35 몰% 이상 55 몰% 이하의 Bi2O3; 2 몰% 이상 20 몰% 이하의 ZnO; 및 10 몰% 이상 40 몰% 이하의 B2O3을 포함한다.
A particle mixture comprising particles of a first glass frit and particles of a second glass frit; wherein the first glass frit comprises ≥10 to ≤25 mol. % BaO; and ≥0 to ≤10 mol. % Bi2O3; and wherein the second glass frit comprises: ≥35 to ≤55 mol. % Bi2O3; ≥2 to ≤20 mol. % ZnO; and ≥10 to ≤40 mol. % B2O3. |
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Bibliography: | Application Number: KR20207028612 |