스캐닝 노광 장치를 위한 제어 방법

• Main Authors: STAALS FRANK, ALTINI VALERIO
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 05.11.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

기판에 걸쳐 조명 프로파일을 스캐닝하여 그 위에 기능 영역들을 형성하도록 구성되는 스캐닝 노광 장치를 제어하는 방법이 개시된다. 상기 방법은 스캐닝 노광 작업에서, 기능 영역들을 포함하는 노광 필드의 노광 동안 조명 프로파일의 동적 제어를 위한 제어 프로파일을 얻는 단계; 및 개별적인 기능 영역의 노광 품질을 최적화하는 단계를 포함한다. 최적화하는 단계는 a) 스캐닝 방향으로 노광 필드의 범위를 넘어 제어 프로파일을 확장하는 단계; 및/또는 b) 제어 프로파일에 디컨볼루션 방식을 적용하는 단계를 포함할 수 있고, 디컨볼루션 방식의 구조는 스캐닝 방향으로의 조명 프로파일의 치수에 기초한다. A method for controlling a scanning exposure apparatus configured for scanning an illumination profile over a substrate to form functional areas thereon. The method includes determining a control profile for dynamic control of the illumination profile during exposure of an exposure field including the functional areas, in a scanning exposure operation; and optimizing a quality of exposure of one or more individual functional areas. The optimizing may include a) extending the control profile beyond the extent of the exposure field in the scanning direction; and/or b) applying a deconvolution scheme to the control profile, wherein the structure of the deconvolution scheme is based on a dimension of the illumination profile in the scanning direction.