스캐닝 노광 장치를 위한 제어 방법

기판에 걸쳐 조명 프로파일을 스캐닝하여 그 위에 기능 영역들을 형성하도록 구성되는 스캐닝 노광 장치를 제어하는 방법이 개시된다. 상기 방법은 스캐닝 노광 작업에서, 기능 영역들을 포함하는 노광 필드의 노광 동안 조명 프로파일의 동적 제어를 위한 제어 프로파일을 얻는 단계; 및 개별적인 기능 영역의 노광 품질을 최적화하는 단계를 포함한다. 최적화하는 단계는 a) 스캐닝 방향으로 노광 필드의 범위를 넘어 제어 프로파일을 확장하는 단계; 및/또는 b) 제어 프로파일에 디컨볼루션 방식을 적용하는 단계를 포함할 수 있고, 디컨볼루션 방식의...

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Main Authors STAALS FRANK, ALTINI VALERIO
Format Patent
LanguageKorean
Published 05.11.2020
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:기판에 걸쳐 조명 프로파일을 스캐닝하여 그 위에 기능 영역들을 형성하도록 구성되는 스캐닝 노광 장치를 제어하는 방법이 개시된다. 상기 방법은 스캐닝 노광 작업에서, 기능 영역들을 포함하는 노광 필드의 노광 동안 조명 프로파일의 동적 제어를 위한 제어 프로파일을 얻는 단계; 및 개별적인 기능 영역의 노광 품질을 최적화하는 단계를 포함한다. 최적화하는 단계는 a) 스캐닝 방향으로 노광 필드의 범위를 넘어 제어 프로파일을 확장하는 단계; 및/또는 b) 제어 프로파일에 디컨볼루션 방식을 적용하는 단계를 포함할 수 있고, 디컨볼루션 방식의 구조는 스캐닝 방향으로의 조명 프로파일의 치수에 기초한다. A method for controlling a scanning exposure apparatus configured for scanning an illumination profile over a substrate to form functional areas thereon. The method includes determining a control profile for dynamic control of the illumination profile during exposure of an exposure field including the functional areas, in a scanning exposure operation; and optimizing a quality of exposure of one or more individual functional areas. The optimizing may include a) extending the control profile beyond the extent of the exposure field in the scanning direction; and/or b) applying a deconvolution scheme to the control profile, wherein the structure of the deconvolution scheme is based on a dimension of the illumination profile in the scanning direction.
Bibliography:Application Number: KR20207028249