SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS ARTICLE MANUFACTURING METHOD SUBSTRATE PROCESSING METHOD SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM MANAGEMENT APPARATUS AND PROGRAM

• Main Authors: KOGA SHINICHIRO, TAKIGUCHI TAKAHIRO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 28.10.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CALCULATING; CINEMATOGRAPHY; COMPUTER SYSTEMS BASED ON SPECIFIC COMPUTATIONAL MODELS; COMPUTING; COUNTING; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A substrate processing apparatus is provided. The apparatus includes a photographing unit for photographs a mark on a substrate, and a processor that aligns the substrate based on an image of the mark obtained by the photographing unit. If the alignment has failed, the processor identifies a factor of the failure based on information including the image and executes at least one of a plurality of recovery processes based on the identified factor. The processor includes an output unit that outputs a condition for the at least one of recovery processes in accordance with an inference model, and a learning unit that learns the inference model based on an execution result of the at least one of the recovery processes under the condition output from the output unit. 기판 처리장치가 제공된다. 이 장치는, 기판에 설치된 마크를 촬상하는 촬상부와, 촬상부에 의해 얻어진 마크의 화상에 근거하여 기판의 얼라인먼트를 행하는 처리부를 구비한다. 얼라인먼트가 실패했을 경우, 처리부는, 화상을 포함하는 정보에 근거하여 실패의 요인을 특정하고, 이 특정된 요인에 근거하여, 복수의 리커버리 처리 중 적어도 한 개를 실행한다. 처리부는, 적어도 한 개의 리커버리 처리에 대한 조건을 추론 모델에 따라 출력하는 출력부와, 출력부로부터 출력된 조건하에서의 적어도 한 개의 리커버리 처리의 실행 결과에 근거하여, 추론 모델을 학습하는 학습부를 구비한다.