3D 기능성 광학 물질 적층 구조를 구축하는 방법

• Main Authors: ARGAMAN NAAMAH, MCMILLAN WAYNE, GODET LUDOVIC, VISSER ROBERT JAN, YOUNG MICHAEL YU TAK, BENCHER CHRISTOPHER DENNIS
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 19.10.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

본원에서의 실시예들은, 미크론-미만 3D 광학 물질 구조, 및 미크론-미만 3D 광학 물질 구조를 형성하기 위한 방법을 설명한다. 제1 실시예에서, 평탄화 없이 기판 상에 미크론-미만 3D 광학 물질 구조를 형성하기 위한 방법이 제공된다. 방법은, 기판 상에, 패터닝될 물질 적층체를 증착하는 단계, 물질 적층체의 일부분 상에 두꺼운 마스크 물질을 증착하고 패터닝하는 단계, 물질 적층체를 한 수준 아래로 식각하는 단계, 두꺼운 마스크 물질의 측부 부분을 트리밍하는 단계, 물질 적층체를 한 수준 더 아래로 식각하는 단계, 위의 트리밍 및 식각 단계들을 'N'회 반복하는 단계, 및 물질 적층체로부터 두꺼운 마스크 물질을 박리하는 단계를 포함한다. Embodiments herein describe a sub-micron 3D diffractive optics element and a method for forming the sub-micron 3D diffractive optics element. In a first embodiment, a method is provided for forming a sub-micron 3D diffractive optics element on a film stack disposed on a substrate without planarization. The method includes forming a hardmask on a top surface of a film stack. Forming a mask material on a portion of the top surface and a portion of the hardmask. Etching the top surface. Trimming the mask. Etching the top surface again. Trimming the mask a second time. Etching the top surface yet again and then stripping the mask material.