박판 형상 기판 유지 장치 및 유지 장치를 구비하는 반송 로봇

• Main Authors: SAKATA KATSUNORI, SATO YASUHISA
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 13.10.2020
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; HAND TOOLS; MANIPULATORS; PERFORMING OPERATIONS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

표면 처리가 종료된 박판 형상 기판의 피처리면에 자연 산화층을 생성시키는 일 없이 확실하게 유지하여 반송할 수 있는 유지 장치(45)를 제공한다. 유지 장치(45)는 박판 형상 기판을 유지하는 유지 부재(47)와, 내부에 상기 불활성 가스를 유통시키기 위한 유로(52)가 형성된 퍼지 플레이트(46)와, 불활성 가스 공급원과 상기 유로(52)를 연통시키는 배관 부재를 구비한다. 퍼지 플레이트(46)는 상기 유로(52)와 연통하여 유지 부재(47)가 유지하는 박판 형상 기판의 피처리면에 대향하는 면에 형성되어 있어서 상기 불활성 가스를 상기 박판 형상 기판의 상기 피처리면에 분출하기 위한 분출구(51)를 구비한다. 또한, 유지 장치(45)는 유지 부재(47)와 퍼지 플레이트(46)를 상대적으로 승강 이동시키는 승강 기구(48)를 구비한다. Provided is a holding device 45 capable of holding securely and transporting a thin plate-shaped substrate for which surface processing has been completed without causing a natural oxide film to form on the surface to be processed thereof. This holding device 45 comprises a holding member 47 for holding the thin plate-shaped substrate, a purge plate 46 having formed therein a flow path 52 for the purpose of flowing therethrough an inert gas, and a piping member for connecting an inert gas supply source to the flow path 52. The purge plate 46 is equipped with discharged ports 51, which communicate with the flow path 52 and are provided on a surface facing the surface to be processed of the thin plate-shaped substrate held by the loading member 47, for the purpose of discharging the inert gas onto the processing surface of the thin plate-shaped substrate. In addition, the holding device 45 is equipped with a raising and lowering mechanism 48 that cause the holding member 47 and the purge plate 46 to be raised and lowered relative to each other.