HOLLOW TYPE NITRIDE-BASED CARBON NANOSTRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

본원은 실리카 입자를 도파민계 물질에 의해 코팅하는 단계, 및 상기 실리카 입자를 선택적으로 제거하는 단계를 포함하는 것인, 중공형 질화물계 탄소 나노 구조체의 제조 방법 에 관한 것이다.

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Bibliographic Details
Main Authors KIM HYUN BIN, JEONG SEONG GUK, JEONG DONG IN, CHOI HYUNG WOOK, YOON DAEHO, KANG BONGKYUN, KIM MIN SEOB
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 07.10.2020
Subjects
ADHESIVES
CHEMISTRY
COMPOUNDS THEREOF
DYES
INORGANIC CHEMISTRY
METALLURGY
MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS
MISCELLANEOUS COMPOSITIONS
NATURAL RESINS
NON-METALLIC ELEMENTS
PAINTS
POLISHES
PREPARATION OF CARBON BLACK
TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS,TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES
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Summary:본원은 실리카 입자를 도파민계 물질에 의해 코팅하는 단계, 및 상기 실리카 입자를 선택적으로 제거하는 단계를 포함하는 것인, 중공형 질화물계 탄소 나노 구조체의 제조 방법 에 관한 것이다.
Bibliography:Application Number: KR20190036791