Moisture removal device

본 발명은 반도체 공정 등에서 폐가스를 안정적으로 처리하는 스크러버에 관한 것으로 서 더욱 상세하게는 폐가스를 처리하는 스크러버의 WET TOWER에 부착하여 수분을 제거하는 수분제거 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 가스처리 설비 수분제거 장치는 폐가스를 2차로 처리 함으로써 발생하는 수분을 제거하는 목적에 있어 기존에 것은 액화질소 N2를 사용하는 것으로 유지비용이 증가 하는 것으로 유지비용을 절감할 수 있도록 배기압력을 이용한 것이다. 즉 배기압력을 통하여 회전체 가 회전함으로써 와류가 발생하게 되고 발생된와류를 통하여 수...

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Main Author LEE, SEONG HA
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 07.10.2020
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:본 발명은 반도체 공정 등에서 폐가스를 안정적으로 처리하는 스크러버에 관한 것으로 서 더욱 상세하게는 폐가스를 처리하는 스크러버의 WET TOWER에 부착하여 수분을 제거하는 수분제거 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 가스처리 설비 수분제거 장치는 폐가스를 2차로 처리 함으로써 발생하는 수분을 제거하는 목적에 있어 기존에 것은 액화질소 N2를 사용하는 것으로 유지비용이 증가 하는 것으로 유지비용을 절감할 수 있도록 배기압력을 이용한 것이다. 즉 배기압력을 통하여 회전체 가 회전함으로써 와류가 발생하게 되고 발생된와류를 통하여 수분이 WET TOWER의 벽면에 떨어지게 되므로써 아래에 있는 WET TANK에 수분이 모이게 된다. 기존에 사용하는 수분제거 장치는 액화질소 N2를 사용하는 반면에 어떠한 동력도 없이 기존에 있는 배기압력을 통하여 회전 함으로써 유지비용을 절감할 수 있다.
Bibliography:Application Number: KR20190035477