PHOTOCONDUCTIVE TRANSCRIPTION METHOD USING SACRIFICIAL LAYER

본 발명의 일 실시예에 따른 광 유도 전사 방법은 전사 기판 위에 희생층을 형성하는 단계, 상기 희생층 위에 전사층을 형성하는 단계, 상기 전사 기판의 배면에 광을 조사하여 상기 전사층을 상기 전사 기판과 마주하는 대향 기판에 전사시키는 단계를 포함하고, 상기 희생층은 그래핀을 포함한다....

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Main Authors CHANG WON SEOK, JUNG JOO YUN, CHO SUNG HAK, JO MIN JE, JI SUK YOUNG
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 21.09.2020
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CINEMATOGRAPHY
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:본 발명의 일 실시예에 따른 광 유도 전사 방법은 전사 기판 위에 희생층을 형성하는 단계, 상기 희생층 위에 전사층을 형성하는 단계, 상기 전사 기판의 배면에 광을 조사하여 상기 전사층을 상기 전사 기판과 마주하는 대향 기판에 전사시키는 단계를 포함하고, 상기 희생층은 그래핀을 포함한다.
Bibliography:Application Number: KR20190027613