경사진 주기적 구조물을 갖는 계측 타겟 및 방법

• Main Authors: GHINOVKER MARK, YOEL FELER, LEVINSKI VLADIMIR, TARSHISH SHAPIR INNA, SVIZHER ALEXANDER
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 24.08.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

리소그래피 툴의 직교 생산 X축 및 Y축에 대해 경사진 주기적 구조물이 계측 타겟, 설계 방법, 및 그의 측정 방법에 제공되어, DRAM 디바이스와 같은 사선(경사진, 기울어진) 요소를 가진 디바이스의 보다 정확한 오버레이 측정을 가능하게 한다. 하나 이상의 경사진 주기적 구조물은 하나 이상의 층에 대해 1차원 또는 2차원 신호를 제공하기 위해 사용될 수 있으며, 가능하게는 하나의 층에 적용되는 다수의 단계에 대한 오버레이 측정을 제공한다. 경사진 주기적 구조물은 현재의 계측 타겟 설계(예를 들어, 이미징 타겟 및/또는 스케터로메트리(scatterometry) 타겟)을 수정하거나 새로운 타겟을 설계하는 데 사용될 수 있고, 측정 알고리즘은 경사진 주기적 구조물로부터 신호를 도출하고 그리고/또는 이 구조물의 프리프로세싱(pre-processing)된 이미지를 제공하도록 각각 조정될 수 있다. 개시된 타겟은 프로세스 호환 가능하고 다양한 프로세스 단계에 대해 디바이스 오버레이를 보다 정확하게 반영한다. Metrology targets, design methods and measurement methods thereof are provided with periodic structure(s) which are oblique with respect to orthogonal production axes X and Y of the lithography tool-enabling more accurate overlay measurements of devices having diagonal (oblique, tilted) elements such as DRAM devices. One or more oblique periodic structure(s) may be used to provide one- or two-dimensional signals, with respect to one or more layers, possibly providing overlay measurements for multiple steps applied to one layer. The oblique periodic structure(s) may be used to modify current metrology target designs (e.g., imaging targets and/or scatterometry targets) or to design new targets, and measurement algorithms may be adjusted respectively to derive signals from the oblique periodic structure(s) and/or to provide pre-processed images thereof. The disclosed targets are process compatible and reflect more accurately the device overlays with respect to various process steps.