METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING PLASMA STATUS

• Main Authors: KIM, DUK JAE, SHIM, YUN KEUN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 20.08.2020
• Subjects: ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS

In a method and an apparatus for monitoring the plasma state according to the disclosed invention, the apparatus for monitoring the plasma state includes: a plasma jet module which irradiates plasma formed by supplying power to a discharge electrode installed inside while a discharge gas is supplied; a light detection module which detects light emitted from plasma irradiated by the plasma jet module; a spectrometer which measures a plasma characteristic peak for an optical signal detected through the optical detection module; and an output module which analyzes the peaks corresponding to oxygen-related components in the plasma measured by the spectrometer and outputs the peaks in real time. According to the present invention, it is possible to easily and accurately determine the state of the plasma discharge by monitoring after detecting and extracting the component related to oxygen in the characteristic peak of the plasma through an IR sensor. 개시된 본 발명에 따른 플라즈마 상태 모니터링 방법 및 그 장치 중 플라즈마 상태 모니터링 장치는, 방전 기체가 공급된 상태에서 내부에 설치된 방전 전극에 전원을 공급하여 형성된 플라즈마를 피처리물 상에 조사하는 플라즈마 제트 모듈; 상기 플라즈마 제트 모듈에서 조사된 플라즈마에서 나오는 광을 감지하는 광 감지모듈; 상기 광 감지모듈을 통해 감지된 광 신호에 대한 플라즈마의 특성 픽을 확인할 수 있도록 계측하는 분광기; 및 상기 분광기에서 계측된 플라즈마에서 산소와 관련된 성분에 해당하는 픽을 분석한 후 실시간으로 출력하는 출력모듈;을 한다. 본 발명에 의하면, 플라즈마의 특성 픽 중 산소와 관련된 성분을 IR 센서를 통해 검출 및 추출한 후 모니터링 해서 플라즈마 방전의 상태를 용이하고 정확하게 판단 가능한 효과가 있다.