3 가 크롬 도금액 및 이를 사용한 3 가 크롬 도금 방법

• Main Authors: MORIKAWA YUTO, HORI MASAO, NAKAGAMI MADOKA
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 14.08.2020
• Subjects: APPARATUS THEREFOR; CHEMISTRY; ELECTROFORMING; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; METALLURGY; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS

3 가 크롬 화합물, 전도성 염으로서 염화물, pH 완충제, 착화제를 함유하는 3 가 크롬 도금액으로서, 추가로, 이하의 일반식 (1) R-CH=CH-R-SOX (1) (단, 식 (1) 중, R은 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, 수소 또는 할로겐을 나타내고, R는 없거나 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기를 나타내고, X 는 수소 또는 알칼리 금속을 나타낸다.) 로 나타내는 불포화 술폰산 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 3 가 크롬 도금액 및 이를 사용한 3 가 크롬 도금 방법에 의해, 도금액에 금속 불순물이 들어갔더라도, 도금의 미석출이나 도금에 갈색 줄무늬 모양 등의 색 불균일이 발생하거나 하는 문제가 발생하지 않는 3 가의 크롬 도금액이나 3 가 크롬 도금 방법을 제공한다. Provided are: a trivalent chromium plating solution which contains a trivalent chromium compound, a chloride that serves as a conductive salt, a pH buffering agent and a complexing agent, and which is characterized by additionally containing an unsaturated sulfonic acid represented by general formula (1) (in general formula (1), R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms; R2 is absent or represents a hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms; and X represents a hydrogen atom or an alkali metal atom); and a trivalent chromium plating method which uses this trivalent chromium plating solution. The trivalent chromium plating solution and the trivalent chromium plating method according to the present invention are consequently free from problems such as deposition failure of a plating and generation of color unevenness such as brown stripes in a plating even if a metal impurity is contained in the plating solution.