고휘도 LPP 소스 및 방사선 생성과 잔해 완화를 위한 방법
상호작용 구역(5)에 집속된 레이저 빔(7)을 위한 입력 창(6)를 갖는 진공 챔버(1), 단파장 방사선 빔(9)의 출구를 위한 출력 창(8); 환형 홈(11)을 갖는 회전 타겟 어셈블리(3); 상기 환형 홈의 근위 벽(14)이 특히 레이저 펄스 동안 상기 상호작용 구역과 상기 입력 및 출력 창 양자의 사이에 가시선을 제공하도록 설계되면서, 상기 환형 홈(11)의 원위 벽(13)의 표면 상에 원심력에 의해 형성된 용융 금속의 층으로서의 타겟(4)을 포함하는 고휘도 LPP 소스 및 단파장 방사선을 생성하는 방법. 잔해 입자를 완화시키...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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04.08.2020
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Summary: | 상호작용 구역(5)에 집속된 레이저 빔(7)을 위한 입력 창(6)를 갖는 진공 챔버(1), 단파장 방사선 빔(9)의 출구를 위한 출력 창(8); 환형 홈(11)을 갖는 회전 타겟 어셈블리(3); 상기 환형 홈의 근위 벽(14)이 특히 레이저 펄스 동안 상기 상호작용 구역과 상기 입력 및 출력 창 양자의 사이에 가시선을 제공하도록 설계되면서, 상기 환형 홈(11)의 원위 벽(13)의 표면 상에 원심력에 의해 형성된 용융 금속의 층으로서의 타겟(4)을 포함하는 고휘도 LPP 소스 및 단파장 방사선을 생성하는 방법. 잔해 입자를 완화시키는 방법은 회전 타겟 어셈블리를 빠져 나가는 잔해 입자의 액적 분획이 입력 및 출력 창을 지향하지 않도록 충분히 빠른 타겟 궤도 속도를 사용하는 단계를 포함한다.
High-brightness LPP source and method for generating short-wavelength radiation which include a vacuum chamber (1) with an input window (6) for a laser beam (7) focused into the interaction zone (5), an output window (8) for the exit of the short-wavelength radiation beam (9); the rotating target assembly (3), having an annular groove (11); the target (4) as a layer of a molten metal formed by centrifugal force on the surface of the distal wall (13) of the annular groove (11) while the proximal wall (14) of the annular groove is designed to provide a line of sight between the interaction zone and both the input and output windows particularly during laser pulses. A method for mitigating debris particles comprises using an target orbital velocity high enough for the droplet fractions of the debris particles exiting the rotating target assembly not to be directed towards the input and output windows. |
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Bibliography: | Application Number: KR20207015967 |