반응 장치 및 트리클로로실란의 제조 방법

• Main Authors: OGIHARA KATSUYA, HIROTA KENJI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 22.07.2020
• Subjects: CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY; CHEMISTRY; COMPOUNDS THEREOF; INORGANIC CHEMISTRY; METALLURGY; NON-METALLIC ELEMENTS; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; THEIR RELEVANT APPARATUS; TRANSPORTING

반응 장치의 헤더(40)에 있어서의 응력 부식 깨짐을 방지하는 것을 목적으로 한다. 금속 실리콘 분체와 염화수소 가스를 반응시켜서 트리클로로실란을 생성하기 위한 반응 장치로서, 상기 반응 장치는, 냉각기(70)를 구비하고, 상기 냉각기는, 복수의 열매관(熱媒管)(30)과 헤더(40)를 포함하고, 상기 복수의 열매관은, 반응 장치 내부의 유동층(60) 내에 마련되고, 상기 헤더는, 반응 장치 내부의 프리보드부(50)에 마련되고, 상기 헤더는, 내식성 재료로 구성되어 있다. An object of the present invention is to prevent stress-corrosion cracking of a header (40) of a reactor. A reactor for producing trichlorosilane by causing metal silicon powder and a hydrogen chloride gas to react with each other includes a cooler (70), the cooler including a plurality of heat transfer medium pipes (30) and a header (40), the plurality of heat transfer medium pipes being provided in a fluid bed (60) inside the reactor, the header being provided in a freeboard section (50) inside the reactor, the header being comprised of a corrosion-resistant material.