다공성 그래파이트 펠리클

리소그래피 장치용 펠리클을 제조하는 방법 -상기 방법은 3-차원 템플릿에서 펠리클을 성장하는 단계를 포함함- , 및 이 방법에 따라 제조되는 펠리클이 개시된다. 또한, EUV 리소그래피 장치에서의 상기 방법에 따라 제조된 펠리클의 사용 및 펠리클의 제조 시 3-차원 템플릿의 사용이 개시된다. A method of manufacturing a pellicle for a lithographic apparatus, said method comprising growing the pellicle in a three-dimensional te...

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Main Authors PETER MARIA, NASALEVICH MAXIM ALEKSANDROVICH, VLES DAVID FERDINAND, VAN ZWOL PIETER JAN, KURGANOVA EVGENIA, NOTENBOOM ARNOUD WILLEM
Format Patent
LanguageKorean
Published 21.07.2020
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:리소그래피 장치용 펠리클을 제조하는 방법 -상기 방법은 3-차원 템플릿에서 펠리클을 성장하는 단계를 포함함- , 및 이 방법에 따라 제조되는 펠리클이 개시된다. 또한, EUV 리소그래피 장치에서의 상기 방법에 따라 제조된 펠리클의 사용 및 펠리클의 제조 시 3-차원 템플릿의 사용이 개시된다. A method of manufacturing a pellicle for a lithographic apparatus, said method comprising growing the pellicle in a three-dimensional template and pellicles manufactured according to this method. Also disclosed is the use of a pellicle manufactured according to the method in an EUV lithography apparatus as well as the use of a three-dimensional template in the manufacture of a pellicle.
Bibliography:Application Number: KR20207014407