LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING A LITHOGRAPHIC APPARATUS

• Main Authors: GROEGER PHILIP, BUHL STEFAN, KIM WANSOO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 09.07.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A substrate (100) is provided, and a photosensitive layer (200) is provided on a main surface (110) of the substrate (100). The substrate (100) includes a base section (101) and a mesa section (102). In the base section (101), the main surface (110) is in a base plane (105). The mesa section (102) protrudes from the base plane (105). A radiation beam (806) scans the photosensitive layer (200). A local dose applied to a partial area (230) of the photosensitive layer (200) by the radiation beam (806) includes a base dose component and a correction dose component. The correction dose component is a function of a distance between the partial area (230) and a transition (106) between the base section (101) and the mesa section (102). The correction dose component at least partly compensates an effect of a defocus, which results from a height difference between the mesa section (102) and the base section (101), on a critical dimension in the partial area (230). 기판(100)이 제공되고 감광층(200)이 기판(100)의 메인 표면(110) 상에 제공된다. 기판(100)은 베이스 섹션(101) 및 메사 섹션(102)을 포함한다. 베이스 섹션(101)에는 메인 표면(110)이 베이스 평면(105)에 있다. 메사 섹션(102)이 베이스 평면(105)으로부터 돌출한다. 방사 빔(806)이 감광층(200)을 스캐닝한다. 방사 빔(806)에 의해 감광층(200)의 부분 영역(230)에 적용되는 국소 선량은 기본 선량 성분 및 보정 선량 성분을 포함한다. 보정 선량 성분은, 부분 영역(230)과, 베이스 섹션(101) 및 메사 섹션(102)간의 천이(106) 사이의 거리의 함수이다. 보정 선량 성분은 부분 영역(230)의 임계 치수에 대하여 메사 섹션(102) 및 베이스 섹션(101) 사이의 높이 차이로 인한 디포커스의 영향을 적어도 부분적으로 보상한다.