제조 장치 및 연관된 장치를 제어하는 방법

• Main Authors: VAN ITTERSUM RONALD, SMORENBERG PIETER GERARDUS JACOBUS, VAN DER HEIJDEN ROBERTUS WILHELMUS, WEI XIUHONG, WERKMAN ROY, WILDENBERG JO SEBASTIAAN, RAJASEKHARAN BIJOY, YAGUBIZADE HADI, VERGAIJ HUIZER LYDIA MARIANNA
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 30.06.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

제품 구조체를 복수 층으로 기판에 제공하기 위한 제조 프로세스에서 사용되는 적어도 하나의 제조 장치의 제어를 위한 복수 개의 정정을 결정하기 위한 방법으로서, 각각의 층의 형성에 사용되는 적용가능한 제조 장치의 작동 잠재능력에 기반하여, 각각의 층에 대한 정정을 포함하는 복수 개의 정정을 결정하는 단계를 포함하고, 상기 결정하는 단계는, 각각의 층에 대한 정정들을 매칭 파라미터에 관하여 동시에 결정하는 것을 포함하는, 정정 결정 방법이 개시된다. Disclosed is a method for determining a plurality of corrections for control of at least one manufacturing apparatus used in a manufacturing process for providing product structures to a substrate in a plurality of layers. The method comprises determining (e.g., optimizing simultaneously) the plurality of corrections comprising a correction for each layer, based on an actuation potential of the applicable manufacturing apparatus used in the formation of each layer. The method may also take into account the allowed a process window for each layer.