A substrate inspection apparatus a method for calibrating the substrate inspection apparatus and a method for fabricating a semiconductor device using the same

• Main Authors: SOHN YOUNG HOON, KIM KWANG RAK, YANG YU SIN, JO TAE YONG, BAE YOON SUNG, PARK JANG IK
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 16.06.2020
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; PHYSICS; TESTING

Provided is a substrate inspection equipment. The substrate inspection equipment comprises: a stage on which a subject to be inspected is loaded; a light irradiation unit which irradiates a first light to the subject to be inspected; a light detection unit which detects a second light reflected from the subject to be inspected; a spectrum generator which receives information on the second light from the light detection unit to generate a first spectrum; a noise filter module which performs a domain conversion, arrangement at regular intervals, and filtering on the first spectrum to generate a second spectrum; a spectrum analyzer which uses the second spectrum to determine a first calibration parameter and a first calibration value; and a hardware controller which uses the first calibration parameter and the first calibration value to control at least one of the stage, the light irradiation unit, and the light detection unit. The substrate inspection equipment can simply perform calibration and take the shortest time for calibration. 기판 검사 장비가 제공된다. 상기 기판 검사 장비는 피검사체가 로딩되는 스테이지(stage), 피검사체에 제1 광을 조사하는 광 조사부, 피검사체에서 반사된 제2 광을 검출하는 광 검출부, 광 검출부에서 제2 광에 대한 정보를 제공받아, 제1 스펙트럼을 생성하는 스펙트럼 생성기, 제1 스펙트럼에 대해 도메인 변환, 등간격 배열 및 필터링을 수행하여, 제2 스펙트럼을 생성하는 노이즈 필터 모듈, 제2 스펙트럼을 이용하여, 제1 보정 파라미터와 제1 보정값을 결정하는 스펙트럼 분석기, 및 제1 보정 파라미터와 제1 보정값을 이용하여, 스테이지, 광 조사부 및 광 검출부 중 적어도 하나를 조절하는 하드웨어 컨트롤러를 포함한다.