임프린트 리소그래피 프로세스들에서의 광학 층들의 구성

광학 층을 구성하는 임프린트 리소그래피 방법은, 기판의 유효 굴절률을 변경하기 위해 기판에 적용될 나노층의 하나 이상의 파라미터들을 선택하는 단계 및 기판을 통해 투과 가능한 상대적 광량이 선택된 양만큼 변경되도록 기판의 유효 굴절률을 변경하기 위해 기판 상에 나노층을 임프린트하는 단계를 포함한다. An imprint lithography method of configuring an optical layer includes selecting one or more parameters of a nanolayer to be applied...

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Main Authors XU FRANK Y, YANG SHUQIANG, SINGH VIKRAMJIT, MILLER MICHAEL NEVIN
Format Patent
LanguageKorean
Published 09.06.2020
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:광학 층을 구성하는 임프린트 리소그래피 방법은, 기판의 유효 굴절률을 변경하기 위해 기판에 적용될 나노층의 하나 이상의 파라미터들을 선택하는 단계 및 기판을 통해 투과 가능한 상대적 광량이 선택된 양만큼 변경되도록 기판의 유효 굴절률을 변경하기 위해 기판 상에 나노층을 임프린트하는 단계를 포함한다. An imprint lithography method of configuring an optical layer includes selecting one or more parameters of a nanolayer to be applied to a substrate for changing an effective refractive index of the substrate and imprinting the nanolayer on the substrate to change the effective refractive index of the substrate such that a relative amount of light transmittable through the substrate is changed by a selected amount.
Bibliography:Application Number: KR20207013899