공작물의 수직 상호 연결 액세스 또는 트렌치를 니켈 또는 니켈 합금으로 충전하기 위한 배쓰 및 방법

• Main Authors: BRUNNER HEIKO, ROHDE DIRK, SPERLING JAN, CASTELLANI MAURO, GAIDA JOSEF, VAZHENIN GRIGORY, ACKERMANN STEFANIE
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 08.05.2020
• Subjects: APPARATUS THEREFOR; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; CHEMISTRY; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROFORMING; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; HETEROCYCLIC COMPOUNDS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS; METALLURGY; ORGANIC CHEMISTRY; PRINTED CIRCUITS; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS

하기를 포함하는, 공작물의 수직 상호 연결 액세스 또는 트렌치를 니켈 또는 니켈 합금으로 충전하기 위한 수성 배쓰: 니켈 이온의 공급원, 및 임의로 적어도 하나의 합금 금속의 이온의 공급원, 적어도 하나의 완충제, 화학식 (I) 의 화합물의 적어도 하나의 이량체 또는 이들의 혼합물[식 중, R은 치환 또는 미치환 알케닐 기이고, R는 존재하거나 존재하지 않을 수 있고, 존재하는 경우 R는 -(CH)-SO기 (여기서, n 은 1-6 범위의 정수이고, 기의 수소 중 하나 이상은 치환기, 바람직하게는 하이드록사이드로 치환될 수 있음) 임]; 및 상기 수성 배쓰를 사용하여 공작물의 수직 상호 연결 액세스 또는 트렌치를 니켈 또는 니켈 합금으로 충전하기 위한 방법. An aqueous bath for filling a vertical interconnect access or trench of a work piece with nickel or a nickel alloy, the bath comprising - a source of nickel ions, and optionally a source of ions of at least one alloying metal, - at least one buffering agent, - at least one of a dimer of a compound of formula (I) or mixtures thereof wherein R 1 is a substituted or unsubstituted alkenyl group, R 2 may be present or not, and if present R 2 is a -(CH 2 ) n -SO 3 - group, wherein n is an integer in the range of 1-6, and wherein one or more of the hydrogens in the group may be replaced by a substituent, preferably hydroxide; and a method for filling a vertical interconnect access or trench of a work piece with nickel or a nickel alloy with said aqueous bath.