티타늄 니트라이드-규소 니트라이드 화학-기계적 연마 적용의 고 선택성을 위한 니트라이드 억제제

• Main Authors: HUANG HUNG TSUNG, CHIU YI HONG, YEH MING CHIH, CHIEN CHIH HSIEN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 27.04.2020
• Subjects: ADHESIVES; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMISTRY; DYES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE; METALLURGY; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS; NATURAL RESINS; PAINTS; POLISHES; POLISHING COMPOSITIONS OTHER THAN FRENCH POLISH; SEMICONDUCTOR DEVICES; SKI WAXES

본 발명은 (a) 음이온성 중합체를 포함하는 표면을 갖는 알루미나 입자; (b) (I) 폴리옥시알킬렌 작용기 및 설포네이트 작용기를 포함하는 계면활성제, (II) 폴리옥시알킬렌 작용기 및 설페이트 작용기를 포함하는 계면활성제, (III) 폴리옥시알킬렌 작용기를 포함하는 제1 계면활성제 및 설포네이트 작용기를 포함하는 제2 계면활성제, 및 (IV) 폴리옥시알킬렌 작용기를 포함하는 제1 계면활성제 및 설페이트 작용기를 포함하는 제2 계면활성제로부터 선택되는 제거 속도 억제제; 및 (c) 수성 담체 를 포함하는 화학-기계적 연마 조성물을 제공한다. 또한, 본 발명은 티타늄 니트라이드(TiN) 및 규소 니트라이드(SiN)를 포함하는 기판을 본 발명의 화학-기계적 연마 조성물로 화학-기계적 연마하는 방법을 제공한다. The invention provides a chemical-mechanical polishing composition comprising (a) abrasive particles, b) a removal rate inhibitor selected from (I) a surfactant comprising a polyoxyalkylene functional group and a sulfonate functional group, (II) a surfactant comprising a polyoxyalkylene functional group and a sulfate functional group, (III) a first surfactant comprising a polyoxyalkylene functional group and a second surfactant comprising a sulfonate functional group, and (IV) a first surfactant comprising a polyoxyalkylene functional group and a second surfactant comprising a sulfate functional group, and (c) an aqueous carrier. The invention also provides a method of chemically-mechanically polishing a substrate comprising TiN and SiN with the inventive chemical-mechanical polishing composition.