Low temperature arc ion plating coating

아크 증발기(arc evaporator)를 사용하여 캐소드의 역할을 하는 고체 물질(solid material)을 증발시키고, 상기 고체 물질로부터 다량의 거시입자(macro-particles) 또는 드로플릿(droplets)이 분출되는 것을 피하기 위해, 자기장을 사용하여 아크 증발 중 고체 물질 표면 상의 캐소드 스팟(cathod spot)의 모션을 가속시키고, 아크 증발로 야기된 음으로 하전된 입자들이 캐소드로부터 애노드로 흐르는, 진공 챔버 내에서 기판을 아크 코팅하거나 또는 아크 이온 플레이팅 코팅을 하기 위한 코팅 방법에...

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Main Authors LECHTHALER MARKUS, KURAPOV DENIS, KRASSNITZER SIEGFRIED
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 06.04.2020
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Summary:아크 증발기(arc evaporator)를 사용하여 캐소드의 역할을 하는 고체 물질(solid material)을 증발시키고, 상기 고체 물질로부터 다량의 거시입자(macro-particles) 또는 드로플릿(droplets)이 분출되는 것을 피하기 위해, 자기장을 사용하여 아크 증발 중 고체 물질 표면 상의 캐소드 스팟(cathod spot)의 모션을 가속시키고, 아크 증발로 야기된 음으로 하전된 입자들이 캐소드로부터 애노드로 흐르는, 진공 챔버 내에서 기판을 아크 코팅하거나 또는 아크 이온 플레이팅 코팅을 하기 위한 코팅 방법에 있어서, 상기 캐소드로부터 애노드로의 음으로 하전된 입자들의 모션은 기본적으로 캐소드와 애노드간의 전위 차의 절대값을 추가적으로 증가시키지 않음으로써 코팅 중 기판 온도의 상승이 덜 되게 하는 것을 특징으로 하는 코팅 방법. Coating method for arc coating or arc ion plating coating of substrates in a vacuum chamber in which using an arc evaporator solid material that functions as cathode is evaporated, during arc evaporation the motion of the cathode spot on the solid material surface is accelerated using a magnetic field for avoiding ejection of a large amount of macro-particles or droplets from the solid material surface, negative charged particles resulted from the arc evaporation flow from the cathode to an anode, characterized by the motion of the negative charged particles from the cathode to the anode fundamentally doesn't cause an additional increase of the absolute value of the potential difference between cathode and anode allowing a lower increment of the substrate temperature during coating.
Bibliography:Application Number: KR20207008201